杭州电子产品试产,杭州电子产品试产企业

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于杭州电子产品试产的问题，于是小编就整理了1个相关介绍杭州电子产品试产的解答，让我们一起看看吧。传上海微电子研发出11nm光刻机，...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于杭州电子产品试产的问题，于是小编就整理了1个相关介绍杭州电子产品试产的解答，让我们一起看看吧。

1. 传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？

传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？

这个消息不好定论，提供多少纳米工艺一般指光波长，11nM特意避开常用波长怕别人记不住？我所知道的好用的激光器一般规格是一样的基波长，然后都携带一串幅度减小的多个高次谐波，1/3，1/5，1/7波长…有限一连串的波，用滤波器把波长极短的那个给滤出来做为最小的光斑使用，所以少有8，9，10nM的波长，所以11nM有没有难说，请大家判断，或请发消息者说明是哪来的。

早前确实有相关的报道说上海微电子装备有限公司预计2021年要推出28nm光刻机，但是这一消息官方并没有进行公布，也就是它的可信度并不是很高。目前上海微电子做的光刻机还是以90nm为主，28nm技术应该还是实现不了量产。

最近老美对于华为打压升级，让芯片、光刻机等东西变得非常热门，越来越条友开始关注我们国产光刻机究竟处于什么水平，能不能摆脱对美方技术依赖。而我们国产光刻机处于比较领先的还是上海微电子，关于这个水平一直受到人们争议。

一些媒体报道说国产光刻机目前能够达到5nm水平了，而一些媒体又说国产光刻机还是处于一个90nm阶段，而在2018年时也曾经报道下面这条消息。

中科院的“超分辨光刻装备研制”通过相关验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

（图片来源网络，侵删）

上面还是处于实验室阶段，也就是离真正商用量产还是需要不少时间来检验。而关于这个5nm和90nm水平，不少朋友应该是混淆了光刻机和蚀刻机这两个不同机器。中微半导体的蚀刻机确实达到了5nm水平，而国产光刻机仍然处于90nm水平。

现阶段来说上海微电子做的还是突破达到28nm水平，因此这个11nm消息可信度一点也不高。这里一部分条友会有疑问，中芯国际前段时间已经不是替华为代工14nm工艺芯片了（荣耀Play4T搭载这款芯片）

其实这里也要明白，中芯国际用的也是荷兰ASML光刻机。目前中芯国际得到了大量的资金投资，现阶段它主要目标还是突破7nm技术，也就是未来可以代工7nm工艺芯片。

小晴观点

对于光刻机这个东西是急不得，首先这个基础的28nm也没有突破，就想着说直接达到这个11nm，确实有点像做梦一样。

想要在光刻机有所突破，一方面要加大相关的研发投入，研发如果跟不上一切都是纸上谈兵。再次就是重视相关人才培养，注重相关技术积累，同时也需要两弹一星这样的精神，才能够最快速度突破。

这是***的，目前的水平是90nm，预计于明年研发出28nm的光刻机，所以什么11nm，明显就是***的。

一、上海微电子的水平

上海微电子说起来其实也算是全球第四大光刻机厂商了， 不过在光刻机领域，目前出名的也就四家，分别是ASML，尼康、佳能、上海微电子。

而这四家厂商目前能够量产的光刻机节点水平如下图所示，上海微电子是属于最差的那一家，还是处在90nm，而ASML是最强的那一家，已经进入到5nm了，就算ASML从此不前进了，让上海微电子追，也要至少10年才追得上。

二、光刻机研发的难点在哪里？

那么光刻机的研发难点在哪里？很多人觉得可能是元件，其实光刻机的原理并不复杂，就是投影仪+照相机，最关键的元件也就是光源，但其实它也不那么重要。

就是用光源把芯片的电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆上，硅晶圆涂了光刻胶，是一种光感材料，就会显示出电路图来，这中间光学技术运用得比较多。

光刻机是芯片生产关键设备，ASML的EUV光刻机可量产7nm芯片

光刻机最核心的部件是镜头和激光光源，而在这两项技术上，中国因起步晚，还在追赶荷兰日本等国家。目前全球能生产5nm及以上的光刻机只有荷兰的ASML一家企业，ASML掌握了极紫外光源技术，可以生产7nm及5nm的芯片。

而极紫外光源技术也并非ASML独家研发的，在研发前期，是多国参与的，包括了欧洲多国，还有日本韩国等国家。ASML的EUV（极紫外光刻）光刻机包含了多个国家的专利，可以说是是全球人类智慧的结晶。

“光刻”的意思是用光来制作一个图形，而“光刻”是通过光刻机来实现的。光刻机可以简单的理解为一种用紫外线在硅片、石墨烯等晶圆上刻集成电路的系统设备。

纵观全球光刻机市场，通常情况下都是由荷兰ASML公司为主导，仅仅只是荷兰ASML一家便占据了全球89%以上的市场份额，而三星和台积电这些知名芯片制造商，通常都离不开ASML光刻机的支持。一台光刻机的零配件高达5万个，制造过程极其复杂，被誉为“现代光学工业之花”。

国内情况

我们国家光刻机研发起步晚，但追赶速度很快。目前光刻机全球梯队中，荷兰ASML排名第一，是唯一一家可以生产EUV光刻机的厂家。其次是日本的佳能还有康尼等公司，也可以独立生产光刻机，但是面对的市场是中低端芯片市场。排名紧随其后的是国内的上海微电子装备（集团）股份有限公司，虽然也能够生产出来光刻机，但目前只能够生产出来90nm的光刻机。

虽然我们国内的技术水平还无法量产7nm芯片，但最新报道消息称，上海微电子预计在今年12月，将可能下降首台***用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机。当前，由上海微电子主导研发的首台国产11nm光刻机所***用的核心器件技术领域，依附在浙江大学研发团队的启尔机电推出了可用于最高11nm制程浸没式光刻机的浸液系统，在加上5nm蚀刻机和193nm光刻胶基本实现纯国产，所以在国产技术的支持下，上海微电子光刻机低调斩获2400项专利技术，有望成为光刻机国产的希望。

虽说在光刻机领域我国取得了新的进展，但是目前国内光刻机生产所需要的零部件依然需要从国外市场进口，很显然在光刻机的生产过程中，我国对国外的依赖还是比较大的。不过，不管多难，我国企业都不能放弃，光刻机的自主研发是一个漫长的过程，日后还需要不断努力，争取将核心技术和供应链全都掌握在自己手中，期待日后国产光刻机能够在国际市场中取得更好的成绩，让国产芯片在全球市场立足！

到此，以上就是小编对于杭州电子产品试产的问题就介绍到这了，希望介绍关于杭州电子产品试产的1点解答对大家有用。